CVD 生长二维单层二硒化钨（WSe2）纳米片 CVD二维材料
制备方法：金属基片表面CVD生长加液相转移
产品外观：
1cm*1cm硅晶片，样品附着在硅晶片抛光表面
基片材质：
290nm氧化硅层的硅晶片
包装规格：
单片盒装，密封，氩气保护
复制产品链接
长按图片保存/分享
询盘
询盘
电话：0755-84518823
地址：深圳市坪山区坑梓街道锦绣中路14号
邮箱：hwang_mat@163.com